Dr. Ulrich Warring

geb. am 08.01.1982 in Wuppertal

Forschungspositionen: seit 11/2012: Albert-Ludwigs-Universitat Freiburg, Akad. Mitarbeiter im wiss. Dienst (permanent) in der Gruppe von Prof. Dr. Tobias Schatz (Quantum Simulations with Trapped Ions); 02/2010-10/2012: University of Colorado and National Institute of Standards and Technology, Boulder (USA), Research Associate in der Gruppe von Dr. David J. Wineland (Microwave Quantum Control of Trapped Ions); 04/2007-12/2009: Max-Planck-Institute for Nuclear Physics in Heidelberg, Wiss. Mitarbeiter (Doktorand) in der Gruppe von PD Dr. Alban Kellerbauer (High-Resolution Laser Spectroscopy on the Osmium Anion); Studium an der Ruprecht-Karls-Universitat Heidelberg: 04/2007-11/2009 Naturwiss. Promotionsstudium (Dr. rer. nat.); 10/2001-11/2006 Physik Diplomstudium (Dipl. Phys.)

Hauptforschungsgebiete

Quantenkontrolle von gefangen Ionen und Laser Spektroskopie von atomaren Ionen

Wichtige Publikationen

G. Clos, M. Enderlein, U. Warring, T. Schaetz, and D. Leibfried, Decoherence-assisted spectroscopy of a single Mg+ ion, Phys. Rev. Lett. 112 , 113003 (2014). U. Warring, C. Ospelkaus, Y. Colombe, R. Jördens, D. Leibfried, and D.J. Wineland, Individual-ion addressing with microwave field gradients, Phys. Rev. Lett. 110, 173002 (2013). D.A. Hite, Y. Colombe, A.C. Wilson, K.R. Brown, U. Warring, R. Jördens, J.D. Jost, K.S. McKay, D.P. Pappas, D. Leibfried, and D.J. Wineland, 100-Fold Reduction of Electric-Field Noise in an Ion Trap Cleaned with In-Situ Argon-Ion-Beam Bombardment, Phys. Rev. Lett. 109, 103001 (2012). C. Ospelkaus, U. Warring, Y. Colombe, K.R. Brown, J.M. Amini, D. Leibfried, and D.J. Wineland, Microwave quantum logic gates for trapped ions, Nature 476, 181184 (2011). U. Warring, M. Amoretti, C. Canali, A. Fischer, R. Heyne, J.O. Meier, C. Morhard, and A. Kellerbauer, High-Resolution Laser Spectroscopy on the Neg. Osmium Ion, Phys. Rev. Lett. 102, 043001 (2009).

Kontaktaufnahme

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Adresse / Postanschrift:
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Experimentelle Atom-, Molekül- und Optische Physik
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Fax: +49 (761) 203 5881
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